金平實，男，1955年出生，四川瀘州人，博士?，F任中國科學院上海硅酸鹽研究所工業陶瓷研究中心主任，研究員。

人物介紹

1981年畢業于西北輕工業學院。1986年國家教委公派留日，1992年獲日本名古屋工業大學電及計算機工程學博士，同年進入日本通產省工業技術院(AIST)任主任研究官，1998年任終身教授級主任研究官。

曾兼任瑞典林雪平大學物理系客座研究員，日本愛知工業大學研究生院客座教授，中科院廣州能源研究所特聘首席科學家等。先后發表各類論文170余篇，著書3部，申請國外專利33項，獲授權11項，受邀國際學術會議報告十余次。2009年入選中組部千人計劃特聘專家。

主要研究方向為節能環保有關薄膜與納米材料。長期從事新型智能節能窗與貼膜的基礎研究及應用。

教育及工作經歷：

1981年畢業于西北輕工業學院。

1986年國家教委公派留日。

1992年獲日本名古屋工業大學電及計算機工程學博士。

1992年進入日本通產省工業技術院(AIST)任主任研究官。

1998年任終身教授級主任研究官。

2010年中國科學院上海硅酸鹽研究所工作。

社會任職：

1. 瑞典林雪平大學物理系客座研究員。

2. 日本愛知工業大學研究生院客座教授。

3. 中科院廣州能源研究所特聘首席科學家。

代表性論文

1) 1)S.-D. Ji, Y.-G. Zhao, F. Zhang, P. Jin: Direct formation of single crystal VO2(R) nanorods by one-step hydrothermal treatment, J. Crystal Growth 312(2010)282.

2) G. Xu, C.-M. Huang, M. Tazawa, P. Jin, D.-M. Chen, L.Miao: Electron injection assisted phase transition in a nano-Au-VO2 junction, Appl. Phys. Lett. 93(2008)061911.

3) S.-H. Bao, K. Tajima, Y. Yamada, P. Jin, M. Okada, K. Yoshimura: Optical property and degradation mechanism of magnesium-niobium thin film switchable mirrors，J Ceram Soc. Jpn, 116-6(2006)771.

4) 金平：特約解說：多層薄膜コーティングによる省エネ型多機能窓ガラスの開発、工業材料, Vol.55(2)(2007)83.

5) P. Jin, M. Tazawa, G. Xu: Reversible tuning of surface plasmon resonance of silver nanoparticles using a thermochromic matrix, J. Appl. Phys. 99(2006)096106.

6) G. Xu, Y. Chen, M. Tazawa, P. Jin: Influence of dielectric properties of a substrate upon plasmon resonance spectrum of supported Ag nanoparticles, Appl. Phys. Lett.88(2006)043114.

7) P. Jin, S. Nakao, S. X. Wang, L. M. Wang: Localized epitaxial growth of alpha-Al2O3 thin film on Cr2O3 template by sputter deposition at low substrate temperature, Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 1024-1026.

8) R. Wang, G. Xu, P. Jin: Size dependence of electron-phonon coupling in ZnO nanowires, Phys. Rev. B 69(2004) 113303.

9) P. Jin, G. Xu, M. Tazawa, K. Yoshimura: Design, formation and characterization of a novel multifunctional window with VO2 and TiO2 coatings, Appl. Phys. A 77(2003) 455-459.

10) P. Jin, S. Tanemura: Formation and thermochromism of VO2 films deposited by RF magnetron sputtering at low temperature, Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 1478-1483.